2006秋 応用物理学会
発表資料一覧
川那子高暢
Sc
2
O
3
ゲート絶縁膜を用いたMISFETの作製と特性評価
佐藤創志
電子ビーム蒸着時の酸素供給によるLa
2
O
3
膜の熱安定性向上効果
大石善久
AI層界面挿入によるN
+
-Si基板上Niシリサイドの耐熱性向上
足立学
異種金属のPSMD(モノシリサイド形成後金属添加）法によるNiSiの耐熱性向上
岡本晃一
La
2
O
3
MIM キャパシタ電気特性の熱処理依存症